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両陛下、日本国際賞授賞式に御出席


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天皇、皇后両陛下は日本国際賞の授賞式で、末松安晴東京工業大元学長(左端)に拍手を送られた=23日午後、東京都千代田区の国立劇場

 天皇、皇后両陛下は23日午後、東京都千代田区の国立劇場で開かれた第30回日本国際賞授賞式に出席された。

 同賞は科学技術分野で優れた業績を上げた研究者に贈られる。今年は大容量・長距離の光ファイバー通信に不可欠な半導体レーザーを開発した東京工業大元学長の末松安晴氏(81)と、遺伝子の働きを制御する仕組みを発見した米ロックフェラー大教授のデビッド・アリス氏(63)が受賞した。

 両陛下は授賞式後、都内のホテルで開かれた祝宴にも出席された。